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為什么鍍膜的時候有離子源的濾光片質(zhì)量比較好?

2020-08-11 19:40:42 @CJ-NMOT 421

為什么鍍膜的時候有離子源的濾光片質(zhì)量比較好?

光學(xué)濾光片目前越來越多的應(yīng)用在了各行各業(yè)里面,特別是我們經(jīng)常談?wù)摰降?,無人機(jī)應(yīng)用無人駕駛汽車5G物聯(lián)網(wǎng)等高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)里面。但是很多人并不是那么的了解濾光片的生產(chǎn)制造中會使用到重要的真空鍍膜設(shè)備,而且更少的了解到,納宏的業(yè)務(wù)員在介紹我們生產(chǎn)的濾光片產(chǎn)品的時候,為什么鍍膜的時候有離子源的濾光片質(zhì)量比較好?

真空鍍膜設(shè)備的離子源轟擊對濾光片的影響主要有以下幾個特征:

離子源鍍膜前轟擊:使濾光片基片表面因離子濺射剝離而再清潔和電活化,提高濾光片膜層在濾光片基片表面的凝集系數(shù)

離子源鍍膜后轟擊:提高濾光片膜層聚集密度,增進(jìn)化學(xué)反應(yīng),使氧化物膜層的折射率增加機(jī)械強(qiáng)度和抗激和附著力同時也可以提高濾光片對損傷閾值。

深圳納宏光電作為國內(nèi)一流濾光片生產(chǎn)廠家之一,擁有國內(nèi)先進(jìn)(配備離子源)的真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)高品質(zhì)濾光片,歡迎來電垂詢。

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